Российской литографии быть Уже в следующем году

По словам заместителя главы Минпромторга Василия Шпака, в 2024 году в России начнется выпуск литографических машин для производства микросхем с топологией 350 нм, а в 2026 году – оборудования для производства микросхем с топологией 130 нм.

В настоящее время такие литографические машины производят только две компании в мире, голландская ASML и японская Nikon. Решение о собственном производстве стало ответом на санкции, препятствующие импорту литографического оборудования в Россию. Это шаг на пути к достижению технологического суверенитета в полупроводниковой отрасли.

Микросхемы с топологией от 350 нм до 65 нм используются в различных устройствах, включая микроконтроллеры, силовую электронику, телекоммуникации и автомобильную электронику. На долю этих микросхем приходится около 60% рынка. Ожидается, что спрос на эту технологию сохранится как минимум в течение десятилетия.

Помимо производства литографических машин, в России с 2024 года планируется создание испытательных полигонов для микроэлектронного оборудования. Эти полигоны будут расположены в Москве, Зеленограде, Санкт-Петербурге и Новосибирске.

Для поддержки этих усилий Россия выделила значительные средства: в бюджете на 2024 год предусмотрено 211,4 млрд рублей на такие государственные программы, как «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности» и «Научно-техническое развитие России». Эти инвестиции отражают стремление России включиться в гонку производства полупроводников и снизить зависимость от иностранных технологий в области микроэлектроники.

Какие бывают чипы: